(苏威)索尔维Hyflon系列PFA和MFA特种聚合物

日期:2022-08-04 10:06:44 编辑:科思德塑胶 来源:科思德塑胶 浏览:456


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Hyflon® AD 产品牌号
Hyflon® AD 40H
Hyflon® AD 40L
Hyflon® AD 60
Hyflon® PFA 产品牌号 Hyflon® MFA® 产品牌号
Hyflon® PFA 120XHyflon® MFA® 1041
Hyflon® PFA 125XHyflon® MFA® F1520
Hyflon® PFA 140XHyflon® MFA® F1540
Hyflon® PFA P420Hyflon® MFA® F1750X
Hyflon® PFA P430XHyflon® MFA® 6521
Hyflon® PFA P450  
Hyflon® PFA P455X
 
Hyflon® PFA M620  
Hyflon® PFA M640  
特性   AD 40 AD 60
密度 g/cm3 1.98 1.93
Tg °C 95 125
折射率   1.331 1.327


适用于半导体和膜应用的美国(苏威)索尔维Hyflon-AD
Hyflon® AD 是一系列非结晶全氟聚合物,其性能特性类似于半结晶性全氟聚合物。
主要特性
高温稳定性
良好的耐化学性
优异的疏水性
极低的表面能
低介电常数
极高的气体渗透性和选择性
出色的光学性能(如紫外线透射率高,而折射率低)
美国(苏威)索尔维Hyflon-AD系列PFA非结晶全氟聚合物加工:
Hyflon® AD 聚合物具有一项与众不同的特征,即可在某些溶剂中溶解。尤其是它们在全氟溶剂中的高溶解性和低溶液粘度,使 Hyflon® AD 适用于溶液加工技术。
凭借流延或涂覆技术及热处理(远低于半结晶性全氟聚合物的常用烘烤温度),Hyflon® AD可以生产出均匀的薄膜或薄涂层(厚度可低至亚微米)。
美国(苏威)索尔维Hyflon-AD应用:
半导体
由于具有以下独特特性,Hyflon® AD 可用于生产电子产品的光罩护膜(显微光刻):
出色的光学性能
极低的表面能
极低的介电常数
形成均匀的薄膜或薄涂层(厚度可低至亚微米)的能力
适合采用溶液加工技术(喷涂、流延及旋涂)
在全氟溶剂中的溶解性(低溶液粘度)
渗透膜
由于具有以下优点,Hyflon® AD 适用于制备各种气体分离膜:
极高的气体渗透性和选择性
优异的疏水性
高温稳定性
形成均匀的薄膜或薄涂层(厚度可低至亚微米)的能力
适合采用溶液加工技术(喷涂、流延及旋涂)
在全氟溶剂中的溶解性(低溶液粘度)。


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