(苏威)索尔维Hyflon系列PFA和MFA特种聚合物

日期：2022-08-04 10:06:44 编辑：科思德塑胶来源：科思德塑胶浏览：496

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Hyflon® AD 产品牌号

Hyflon® AD 40H

Hyflon® AD 40L

Hyflon® AD 60

Hyflon® PFA 产品牌号	Hyflon® MFA® 产品牌号
Hyflon® PFA 120X	Hyflon® MFA® 1041
Hyflon® PFA 125X	Hyflon® MFA® F1520
Hyflon® PFA 140X	Hyflon® MFA® F1540
Hyflon® PFA P420	Hyflon® MFA® F1750X
Hyflon® PFA P430X	Hyflon® MFA® 6521
Hyflon® PFA P450
Hyflon® PFA P455X
Hyflon® PFA M620
Hyflon® PFA M640

特性		AD 40	AD 60
密度	g/cm³	1.98	1.93
T_g	°C	95	125
折射率		1.331	1.327

适用于半导体和膜应用的美国(苏威)索尔维Hyflon-AD
Hyflon® AD 是一系列非结晶全氟聚合物，其性能特性类似于半结晶性全氟聚合物。
主要特性
高温稳定性
良好的耐化学性
优异的疏水性
极低的表面能
低介电常数
极高的气体渗透性和选择性
出色的光学性能（如紫外线透射率高，而折射率低）
美国(苏威)索尔维Hyflon-AD系列PFA非结晶全氟聚合物加工：
Hyflon® AD 聚合物具有一项与众不同的特征，即可在某些溶剂中溶解。尤其是它们在全氟溶剂中的高溶解性和低溶液粘度，使 Hyflon® AD 适用于溶液加工技术。
凭借流延或涂覆技术及热处理（远低于半结晶性全氟聚合物的常用烘烤温度），Hyflon® AD可以生产出均匀的薄膜或薄涂层（厚度可低至亚微米）。
美国(苏威)索尔维Hyflon-AD应用：
半导体
由于具有以下独特特性，Hyflon® AD 可用于生产电子产品的光罩护膜（显微光刻）：
出色的光学性能
极低的表面能
极低的介电常数
形成均匀的薄膜或薄涂层（厚度可低至亚微米）的能力
适合采用溶液加工技术（喷涂、流延及旋涂）
在全氟溶剂中的溶解性（低溶液粘度）
渗透膜
由于具有以下优点，Hyflon® AD 适用于制备各种气体分离膜：
极高的气体渗透性和选择性
优异的疏水性
高温稳定性
形成均匀的薄膜或薄涂层（厚度可低至亚微米）的能力
适合采用溶液加工技术（喷涂、流延及旋涂）
在全氟溶剂中的溶解性（低溶液粘度）。